掩膜装置
授权
摘要
本实用新型公开一种掩膜装置，包括掩膜框架以及分设于其前后两端的前遮挡组件和后遮挡组件，掩膜框架用于放置待蒸镀的玻璃基板，前遮挡组件和后遮挡组件沿竖直方向交错且间隔设置，前遮挡组件和后遮挡组件均包括遮挡板和缓冲件，遮挡板连接于掩膜框架，缓冲件设置于遮挡板上，用于缓冲相邻两个掩膜装置碰撞时的冲击力。在传送带上可使相邻两个掩膜框架之间的前遮挡组件和后遮挡组件在竖直方向上交错且间隔设置，在保证两个掩膜装置之间具有安全距离的同时，又能遮挡蒸镀源散发的有机物蒸汽，避免有机物蒸汽散发至掩膜装置的上方造成污染，另外，即使相邻两掩膜装置发生了碰撞，二者上的缓冲件可以缓冲碰撞冲击力，避免玻璃基板移位。
基本信息
专利标题 ：
掩膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123006087.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-02
授权号 ：
CN216427383U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
舒渝
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
郭慧娟
优先权 ：
CN202123006087.8
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 C23C14/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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