掩膜框架
授权
摘要
本实用新型涉及显示技术领域，公开了一种掩膜框架，包括主框架、对位组件、支撑组件及遮挡组件。主框架包括框架底座及四个凸起部，四个凸起部分别是由框架底座的四个角部向上凸起形成，各凸起部均开设有对位槽。对位组件包括四个对位条，各对位条分别设置于各对位槽内。支撑组件包括多个支撑条，多个支撑条横向间隔设置于框架底座上，支撑条的上表面低于或平齐于凸起部的上表面。遮挡组件包括多个遮挡条，多个遮挡条纵向间隔设置于框架底座上，且多个遮挡条与多个支撑条以拼接方式相交设置，遮挡条的上表面与支撑条的上表面相平齐。如此能够对玻璃基板产生支撑作用，降低掩膜板与玻璃基板的摩擦，从而减少静电的产生，避免掩膜板变形。
基本信息
专利标题 ：
掩膜框架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022484064.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-30
授权号 ：
CN214088639U
授权日 ：
2021-08-31
发明人 ：
韩超杰王红英冉应刚吴俊雄
申请人 ：
信利（惠州）智能显示有限公司
申请人地址 ：
广东省惠州市仲恺高新区新华大道南1号
代理机构 ：
广州市华学知识产权代理有限公司
代理人 ：
张秋弟
优先权 ：
CN202022484064.7
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2021-08-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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