一种掩膜板框架结构
授权
摘要
本实用新型公开了一种掩膜板框架结构,包括掩膜板本体,所述掩膜板本体的底部设置有框架本体,所述框架本体顶部前侧和后侧的两侧均固定连接有限位杆,所述掩膜板本体的底部开设有与限位杆配合使用的限位孔,所述掩膜板本体顶部前侧和后侧的两侧均固定连接有壳体。通过设置掩膜板本体、框架本体、限位杆、限位孔、壳体、通孔、固定机构、固定杆、活动块、弹簧、活动机构、按钮、活动板、活动杆、固定孔、固定槽、活动孔、滑槽和滑块的配合使用,解决了现有的掩膜板与框架的固定大多数都是采用螺纹固定或者焊接,焊接局限性较大,螺纹固定的方式更换掩膜板或框架时较为不便,不方便使用者使用的问题。
基本信息
专利标题 :
一种掩膜板框架结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021869742.5
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-08-31
授权号 :
CN212808907U
授权日 :
2021-03-26
发明人 :
谭照明
申请人 :
深圳市鑫旺兴电子有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区松岗街道东方社区大田洋工业区北一路7号1-3楼
代理机构 :
深圳市中科创为专利代理有限公司
代理人 :
谭雪婷
优先权 :
CN202021869742.5
主分类号 :
G03F1/64
IPC分类号 :
G03F1/64
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合,例如在支持框架上具有薄膜;其制备
G03F1/64
以框架为特征的,例如其结构或材料
法律状态
2021-03-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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