掩膜板框架及掩膜板
授权
摘要
本实用新型涉及一种掩膜板框架，包括框架，框架包括两个安装板和至少一个连接板，连接板的一端与一安装板连接，连接板的另一端与另一安装板连接；各安装板具有一安装面，各安装面开设有至少一个第一吸附孔，第一吸附孔贯穿安装板，各安装面具有第一焊接区。上述的掩膜板框架及掩膜板，保证了掩膜板本体的平整度，从而避免了在蒸镀生产时掩膜板本体与玻璃基板之间存在缝隙而产生混色。
基本信息
专利标题 ：
掩膜板框架及掩膜板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921013700.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-28
授权号 ：
CN210534534U
授权日 ：
2020-05-15
发明人 ：
韩超杰汪仁朋冉应刚王红英蔡晓义
申请人 ：
信利（惠州）智能显示有限公司
申请人地址 ：
广东省惠州市仲恺高新区新华大道南1号
代理机构 ：
广州华进联合专利商标代理有限公司
代理人 ：
罗佳龙
优先权 ：
CN201921013700.9
主分类号 ：
G03F1/64
IPC分类号 ：
G03F1/64
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1/62
薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备
G03F1/64
以框架为特征的,例如其结构或材料
法律状态
2020-05-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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