掩膜外框和掩膜组件
授权
摘要
本发明公开了一种掩膜外框和掩膜组件。掩膜外框，包括主框体和至少两个热膨胀部；主框体围合形成蒸镀区域；至少两个热膨胀部，设置于主框体上且将主框体至少划分为第一框体和第二框体，热膨胀部的热膨胀系数大于主框体的热膨胀系数，用于在受热膨胀时使第一框体相对于第二框体向远离第二框体的方向移动。本发明实施例的技术方案，减少了高温蒸镀过程中掩膜部的下垂量，降低了掩膜部的像素位置精度的偏差，提升OLED的蒸镀精度及显示效果。另外，本实施例的技术方案无需对掩膜部进行加工改进，掩膜外框能够适用于多种掩膜部，在改善掩膜部下垂现象的同时，降低了蒸镀工艺的制造成本，提升了掩膜组件使用的便利性。
基本信息
专利标题 ：
掩膜外框和掩膜组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111254388A
申请号 ：
CN202010238341.8
公开（公告）日 ：
2020-06-09
申请日 ：
2020-03-30
授权号 ：
CN111254388B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
赵坤古春笑杨硕丁敏
申请人 ：
昆山国显光电有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路1号4幢
代理机构 ：
北京远智汇知识产权代理有限公司
代理人 ：
范坤坤
优先权 ：
CN202010238341.8
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 C23C14/12
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2020-07-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20200330
申请日 : 20200330
2020-06-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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