掩膜组件
授权
摘要
本实用新型公开一种掩膜组件，包括支撑框架和多个掩膜条，多个掩膜条交叉设置，并连接于支撑框架上，以划分形成多个矩形蒸镀区域，每个掩膜条均沿其宽度方向在支撑框架上的位置可调，每个掩膜条上均设置有遮蔽结构。通过沿掩膜条的宽度方向调节其在支撑框架上的位置，能够调节多个掩膜条划分形成的蒸镀区域的尺寸，使用时，可根据待蒸镀的玻璃基板上的待蒸镀区域调节掩膜条的位置，以使形成的蒸镀区域与玻璃基板上的待蒸镀区域对正，通用性强，另外，在有掩膜条并排设置的位置，掩膜条上的遮蔽结构能够遮挡相邻两掩膜条之间形成的竖向间隙，从而避免下方蒸镀源散发的有机物蒸汽污染玻璃基板上的非蒸镀区域。
基本信息
专利标题 ：
掩膜组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202123010398.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-12-02
授权号 ：
CN216427384U
授权日 ：
2022-05-03
发明人 ：
黄新宇
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
郭慧娟
优先权 ：
CN202123010398.1
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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