掩膜板及掩膜板结构
授权
摘要
本公开提供了一种掩膜板及掩膜板结构。该掩膜板包括板体。该板体包括设有镂空孔的通刻区，所述通刻区包括间隔设置的多个有效蒸镀区以及位于相邻的两个所述有效蒸镀区之间的间隔区；多个所述有效蒸镀区中存在至少两个所述有效蒸镀区沿着第一方向分布；沿着所述第一方向分布的相邻的两个所述有效蒸镀区之间的所述间隔区中包括非镂空区，所述非镂空区的面积大于所述镂空孔的面积。本公开能够提高蒸镀效果。
基本信息
专利标题 ：
掩膜板及掩膜板结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122660696.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-11-02
授权号 ：
CN216585166U
授权日 ：
2022-05-24
发明人 ：
吴建鹏孙国栋张锴
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京博思佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
梁鹏
优先权 ：
CN202122660696.9
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-24 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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