虚拟掩膜板、掩膜板及其制作方法
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摘要
本发明提供了一种虚拟掩膜板、掩膜板及其制作方法，属于显示技术领域。其中，所述虚拟掩膜板的虚拟图形由多个在第一方向上依次排布的子图形组成，相邻所述子图形在垂直于第一方向的第二方向上错开既定距离排列，所述第一方向为所述虚拟图形的延伸方向。通过本发明的技术方案，能够改善显示装置的Mura不良。
基本信息
专利标题 ：
虚拟掩膜板、掩膜板及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109814328A
申请号 ：
CN201910242377.0
公开（公告）日 ：
2019-05-28
申请日 ：
2019-03-28
授权号 ：
CN109814328B
授权日 ：
2022-06-10
发明人 ：
刘鹏李付强冯京王志冲栾兴龙
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
许静
优先权 ：
CN201910242377.0
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03F1/70 G02F1/13
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2022-06-10 ：
授权
2019-06-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/00
申请日 : 20190328
申请日 : 20190328
2019-05-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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