一种掩膜版及其制作方法
实质审查的生效
摘要
本申请提供一种掩膜版及其制作方法，包括：掩膜框架，所述掩膜框架包括多个顺次连接的边框，多个所述边框围合形成开窗；第一掩膜条，其两端分别与多个所述边框中的两个相对的边框固定；第二掩膜条，其一端与多个所述边框中的一个固定，另一端与所述第一掩膜条固定，且第二掩膜条延伸的方向与第一掩膜条延伸的方向垂直；以及修正掩膜条，至少包括第一修正条，所述第一修正条层叠于所述第一掩膜条上，且所述第一修正条的宽度大于所述第一掩膜条的宽度，所述第一掩膜条在所述第一修正条上的投影位于所述第一修正条内，所述第一修正条及所述第二掩膜条共同将所述开窗分为多个不同尺寸的蒸镀开口。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜版及其制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540760A
申请号 ：
CN202210126293.2
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2022-02-10
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
韩超杰欧建兵其他发明人请求不公开姓名
申请人 ：
广州华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区（中新广州知识城）亿创街1号406房之417
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
管婷
优先权 ：
CN202210126293.2
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20220210
申请日 : 20220210
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
