掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法
授权
摘要
本发明公开了一种掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法，该掩膜板包括：至少一个掩膜条；其中，所述掩膜条包括多个孔，所述多个孔在所述掩膜条上沿第一方向排布且沿第二方向延伸，所述第一方向与所述第二方向交叉，所述多个孔包括在所述第一方向上位于边缘位置的多个边缘孔，所述多个边缘孔中的至少一个设置为对位孔，所述掩膜条包括识别单元，所述识别单元用于识别所述边缘孔中所设置的所述对位孔。本申请提供的掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法，提高了所制作的掩膜板张网时的张网精度，以提高所制作的显示面板制作精度和良品率。
基本信息
专利标题 ：
掩膜板、显示面板及掩膜板的制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112725727A
申请号 ：
CN202011423740.8
公开（公告）日 ：
2021-04-30
申请日 ：
2020-12-08
授权号 ：
CN112725727B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
黄文科
申请人 ：
武汉天马微电子有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖新技术开发区东一产业园流芳园路8号
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
娜拉
优先权 ：
CN202011423740.8
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 H01L27/32 H01L51/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2021-05-21 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20201208
申请日 : 20201208
2021-04-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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