掩膜版、阵列基板的制作方法及显示面板
授权
摘要
本发明公开了一种掩膜版、阵列基板的制作方法及显示面板。其中，所述掩膜版包括：与沟道区域对应的第一曝光区、位于所述第一曝光区一侧的待形成源极的第二曝光区、位于第一曝光区相对的另一侧的待形成漏极的第三曝光区，以及位于第三曝光区背离所述第一曝光区一侧的第四曝光区，所述第一曝光区与第四曝光区均为半透光区域。本发明技术方案的掩膜版在曝光和显影的过程中，能使得部分光阻遗留在与第一曝光区和第四曝光区相对应的区域内，对待形成沟道区域和待形成漏极的区域进行保护，从而提升画素的开口率。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版、阵列基板的制作方法及显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113467179A
申请号 ：
CN202110707248.1
公开（公告）日 ：
2021-10-01
申请日 ：
2021-06-23
授权号 ：
CN113467179B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
王光加袁海江
申请人 ：
惠科股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层，6栋七层
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
魏润洁
优先权 ：
CN202110707248.1
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G03F1/38 H01L21/77 H01L27/12
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2021-10-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 1/00
申请日 : 20210623
申请日 : 20210623
2021-10-01 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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