掩膜版、阵列基板及显示面板
授权
摘要
本实用新型公开一种掩膜版、阵列基板及显示面板，其中，所述掩膜版用于在光刻工艺中成型平坦层，所述掩膜版包括膜版主体以及自所述膜版主体周缘延伸出的调光膜版，自所述膜版主体朝向所述调光膜版的方向上，所述调光膜版的透光量呈渐变设置，以使得对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，对应所述膜版主体成型的部分平坦层厚度均匀，对应所述调光膜版成型的部分平坦层的厚度呈递减设置，以在所述平坦层上形成配向膜时，减少配向膜溶液堆积，增强配向膜液滴扩散能力，改善亮暗不均匀，提高了产品的质量。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版、阵列基板及显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122340406.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-09-24
授权号 ：
CN216210466U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
王光加康报虹
申请人 ：
惠科股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市宝安区石岩街道石龙社区工业二路1号惠科工业园厂房1栋一层至三层、五至七层，6栋七层
代理机构 ：
深圳市世纪恒程知识产权代理事务所
代理人 ：
郭春芳
优先权 ：
CN202122340406.2
主分类号 ：
G03F1/00
IPC分类号 ：
G03F1/00 G02F1/1362 G02F1/1368
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1/00
用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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