显示基板的制造方法和掩膜板组件
授权
摘要
本公开提供一种显示基板的制造方法和掩膜板组件。在显示基板的制造方法中，提供第一掩膜板，其中第一掩膜板的开口大小由显示区的大小与第一最小距离共同确定，第一最小距离为在从显示区到非显示区的方向上，显示区的边界与功能层的边界之间的距离，第一最小距离由从显示区延伸至非显示区的功能层的第一阴影宽度确定，第一阴影宽度为在预设区域内蒸镀功能层的情况下，在预设区域内形成的阴影区的宽度最大值；利用第一掩膜板形成功能层。本公开在提升AA区显示良率的同时，还能减小OLED设备的边框。
基本信息
专利标题 ：
显示基板的制造方法和掩膜板组件
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112397674A
申请号 ：
CN201910763581.7
公开（公告）日 ：
2021-02-23
申请日 ：
2019-08-19
授权号 ：
CN112397674B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
宋永杰嵇凤丽罗昶吴建鹏马益杨晓宇杜森
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
刘剑波
优先权 ：
CN201910763581.7
主分类号 ：
H01L51/56
IPC分类号 ：
H01L51/56 C23C14/04
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2021-03-12 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 51/56
申请日 : 20190819
申请日 : 20190819
2021-02-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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