蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法
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摘要
蒸镀掩膜(10)中，掩膜片(15)和对准片(14)被配置在掩膜框架(11)的第一面(11za)上，掩膜片(15)被设置在掩膜框架(11)的第一面(11za)的顶表面(11g)上，对准片(14)被设置在掩膜框架(11)的第一面(11za)的、从顶表面(11g)上凹陷的凹部(11i)上。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀掩膜、蒸镀掩膜的制造方法及显示设备的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111655896A
申请号 ：
CN201880087484.4
公开（公告）日 ：
2020-09-11
申请日 ：
2018-01-24
授权号 ：
CN111655896B
授权日 ：
2022-06-14
发明人 ：
田中庄介
申请人 ：
夏普株式会社
申请人地址 ：
日本国大阪府堺市堺区匠町1番地
代理机构 ：
深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
代理人 ：
王娟
优先权 ：
CN201880087484.4
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-06-14 ：
授权
2020-10-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20180124
申请日 : 20180124
2020-09-11 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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