蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供不具有毛刺的蒸镀掩模和不会形成毛刺的蒸镀掩模的制造方法。本发明的蒸镀掩模的制造方法中，在支承基板的第1面形成具有开口图案的掩模主体，在掩模主体上配置掩模框架，在支承基板的与第1面相反的一侧的第2面配置包含铁磁性体的临时固定件，利用临时固定件的磁力将掩模框架固定在掩模主体上，形成将掩模主体与掩模框架连接的连接部，将临时固定件和支承基板拆下。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀掩模和蒸镀掩模的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114438554A
申请号 ：
CN202111177121.X
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-10-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
松本优子山田哲行
申请人 ：
株式会社日本显示器
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
邸万杰
优先权 ：
CN202111177121.X
主分类号 ：
C25D1/10
IPC分类号 ：
C25D1/10 C25D1/20 C23C14/04 C23C14/24 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C25
电解或电泳工艺；其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法；电铸；工件的电解法接合；所用的装置
C25D1/00
电铸
C25D1/10
模具；掩模；主型腔
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C25D 1/10
申请日 : 20211009
申请日 : 20211009
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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