蒸镀掩模单元及其制造方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供蒸镀掩模单元及其制造方法，其目的在于提供设有精密地配置的多个开口的蒸镀掩模单元及其制造方法。蒸镀掩模单元包括第1金属层、第2金属层和第1金属层上的框架。第1金属层具有多个第1开口。第2金属层位于第1金属层上，与第1金属层接触，具有多个第2开口。框架位于第1金属层上。框架的一部分在相邻的两个第1开口之间和相邻的两个第2开口之间的区域延伸，在该区域与第1金属层重叠。多个第1开口的至少一个与多个第2开口之一重叠。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀掩模单元及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114381686A
申请号 ：
CN202111177130.9
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-10-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
松本优子
申请人 ：
株式会社日本显示器
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
邸万杰
优先权 ：
CN202111177130.9
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/18 C23C14/20 C23C14/24 C23C14/34 C23C16/06 C25D5/48 C25D5/54 C23C28/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20211009
申请日 : 20211009
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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