蒸镀掩模
授权
摘要
本发明提供一种蒸镀掩模，其包括：具有第1开口部的金属层；和设置在所述金属层的第1面侧的第1树脂层，所述蒸镀掩模的特征在于，所述蒸镀掩模具有：所述金属层与所述第1树脂层层叠的第1区域；和所述第1树脂层与所述金属层不层叠的第2区域，所述第1树脂层具有被所述第2区域包围的第2开口部，所述第2开口部的侧壁具有锥形形状。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀掩模
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111424233A
申请号 ：
CN202010321037.X
公开（公告）日 ：
2020-07-17
申请日 ：
2016-12-30
授权号 ：
CN111424233B
授权日 ：
2022-04-01
发明人 ：
大河原健
申请人 ：
株式会社日本显示器
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京尚诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
邸万杰
优先权 ：
CN202010321037.X
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 C23C14/34 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-04-01 ：
授权
2020-08-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20161230
申请日 : 20161230
2020-07-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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