蒸镀掩模、蒸镀掩模装置以及中间体
授权
摘要
本实用新型提供蒸镀掩模、蒸镀掩模装置以及中间体。蒸镀掩模具备掩模主体和接合于掩模主体的支承体。掩模主体具有第1校准标识，支承体具有第2校准标识。第1校准标识和第2校准标识被设置于在俯视时互相重合的位置，并且它们中的任意一方比另一方大。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀掩模、蒸镀掩模装置以及中间体
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020146633.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-23
授权号 ：
CN213232465U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
池永知加雄
申请人 ：
大日本印刷株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 ：
邓毅
优先权 ：
CN202020146633.4
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 H01L51/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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