一种掩膜版及其蒸镀装置
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

本实用新型涉及OLED显示器技术领域,具体涉及一种掩膜版及其蒸镀装置。本实用新型提供的掩膜版,包括掩膜版本体,还包括,若干蒸镀孔,设置于所述掩膜版本体上且贯穿所述掩膜版本体上下表面,用于蒸镀材料通过所述蒸镀孔进行蒸镀以形成蒸镀图案;至少一层保护层,设置于所述掩膜版本体一侧上,所述保护层与所述蒸镀孔相对应区域设置开孔,所述开孔与所述蒸镀孔一一对应且所述开孔的尺寸不小于所述蒸镀孔的尺寸。本实用新型提供的掩膜版,可有效降低阴极蒸镀材料与保护层之间的附着能力,从而使得粘结在掩膜版上的阴极蒸镀材料可以很容易的被清洗掉,达到快速清洗的效果。

基本信息
专利标题 :
一种掩膜版及其蒸镀装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921560310.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-18
授权号 :
CN211057217U
授权日 :
2020-07-21
发明人 :
史凯兴薛文涛刘宏俊
申请人 :
昆山维信诺科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市高新区晨丰路188号
代理机构 :
北京三聚阳光知识产权代理有限公司
代理人 :
李亚南
优先权 :
CN201921560310.3
主分类号 :
C23C14/04
IPC分类号 :
C23C14/04  C23C14/12  C23C14/24  H01L51/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物
法律状态
2020-11-17 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : C23C 14/04
变更事项 : 专利权人
变更前 : 昆山维信诺科技有限公司
变更后 : 苏州清越光电科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 215300 江苏省苏州市昆山市高新区晨丰路188号
变更后 : 215300 江苏省苏州市昆山市高新区晨丰路188号
2020-07-21 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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