蒸镀坩埚及蒸镀装置
公开
摘要
本申请涉及蒸镀设备技术领域，提供了一种蒸镀坩埚及蒸镀装置，前者包括坩埚本体和加热装置；坩埚本体具有用于盛装蒸镀材料的容腔；加热装置设置于坩埚本体的外底壁；其中，坩埚本体的内底壁设有多个第一凹陷部，且相邻的两个第一凹陷部之间围成分隔部；坩埚本体与分隔部对应的外底壁处还设置有朝向分隔部凹陷的第二凹陷部；加热装置至少部分的插装于第二凹陷部。后者包括前者。该蒸镀坩埚的加热装置产生的热量，既可以通过坩埚本体的外底壁进行传导，又可以通过坩埚本体的分隔部进行传导，从而解决了现有技术中蒸镀坩埚的加热速度慢、加热效率低的问题。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀坩埚及蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574809A
申请号 ：
CN202011380594.5
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林文晶轩景泉赵军钱海涛毕岩刘萍
申请人 ：
上海升翕光电科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区夏宁路666弄62号
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
周放
优先权 ：
CN202011380594.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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