一种蒸镀坩埚及蒸镀系统
实质审查的生效
摘要

一种蒸镀坩埚和蒸镀系统。所述蒸镀坩埚包括:坩埚本体,包括底壁和所述侧壁围成的具有开口的容纳腔;设置在所述容纳腔内的网板组件,所述网板组件包括第一网板和第二网板,二者之间具有避让间隙,所述第一网板设置有至少一个第一网孔;所述第二网板包括开口部,所述开口部设置有至少一个第二网孔,在垂直于所述底壁的平面上,所述开口部的截面包括至少一个开口朝向所述底壁或者背离所述底壁的开口单元,所述开口单元为V形或者梯形;喷嘴,设置在所述容纳腔的开口处,所述喷嘴开设有喷气孔。本公开实施例中,通过增加梯形或V形开口的网板,使得气流通过两层网板之间的气孔通道产生类似涡流效应,从而减少喷溅,避免暗点不良和损坏掩膜版等。

基本信息
专利标题 :
一种蒸镀坩埚及蒸镀系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114481038A
申请号 :
CN202210168538.8
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2022-02-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
星光杨增乾黄正峰孙福坤彭俊林李震芳宋星星冯耀耀金童燮张志华
申请人 :
合肥鑫晟光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市新站区工业园内
代理机构 :
北京安信方达知识产权代理有限公司
代理人 :
解婷婷
优先权 :
CN202210168538.8
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/04  C23C14/54  H01L51/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-31 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20220223
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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