一种蒸镀坩埚
授权
摘要
本发明实施例提供了一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体；以及设置在所述坩埚本体的坩埚槽内的至少一个缓冲板，至少一个所述缓冲板沿所述坩埚本体宽度方向放置，其中所述缓冲板包括挡片和与所述挡片表面连接的至少一个弹簧，至少一个所述弹簧可以沿所述坩埚本体长度方向被拉伸或压缩。本申请解决了由于在蒸镀过程中需要交替移动使用坩埚，且在移动的过程中会加速从而导致坩埚内的有机熔融材料发生剧烈的晃动震荡，使得蒸镀膜厚度不一致，影响产品性能的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀坩埚
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN111424240A
申请号 ：
CN202010478086.4
公开（公告）日 ：
2020-07-17
申请日 ：
2020-05-29
授权号 ：
CN111424240B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
张雪峰陈闻凯赵景训黄永振陈雷行张红信卫勇勇王晓强贾凯滕鑫贺斌露
申请人 ：
云谷（固安）科技有限公司
申请人地址 ：
河北省廊坊市固安县新兴产业示范区
代理机构 ：
北京布瑞知识产权代理有限公司
代理人 ：
李浩
优先权 ：
CN202010478086.4
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2020-08-11 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20200529
申请日 : 20200529
2020-07-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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