一种蒸镀坩埚及蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型涉及蒸镀设备领域，公开一种蒸镀坩埚及蒸镀设备。所述蒸镀坩埚包括坩埚本体和外延结构，外延结构包括上开口和下开口，下开口的面积小于上开口，下开口与坩埚本体的开口相连接，外延结构上设置有容纳槽，容纳槽被配置为收集回流的蒸镀材料。所述蒸镀设备包括上述的蒸镀坩埚。本实用新型有利于优化蒸镀材料的蒸镀发散角，能够驱使蒸镀材料冷却回流，可以有效避免蒸镀材料的泄漏，避免污染加热装置，提高蒸镀材料的利用率，降低成本，同时可对回流的蒸镀材料进行收集，并进行蒸镀材料的质量监控(防止回流蒸镀材料变质影响器件制备)及蒸镀材料的二次提纯。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀坩埚及蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921870094.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-11-01
授权号 ：
CN211112186U
授权日 ：
2020-07-28
发明人 ：
陶涛朱凯王浩冯敏强廖良生
申请人 ：
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道1198号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN201921870094.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 H01L51/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-07-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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