一种蒸镀用坩埚设备
授权
摘要
本实用新型提供一种蒸镀用坩埚设备，所述坩埚包括用于使加热后的蒸镀材料通过的喷射口，所述喷射口的形状为管状并设置于所述坩埚的上部；所述喷射口包括靠近所述坩埚一侧的底部端口和远离所述坩埚一侧顶部端口，所述底部端口的内部直径小于所述顶部端口的内部直径。本实用新型提供的蒸镀用坩埚设备可以提高蒸镀材料的利用率。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀用坩埚设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920526354.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-04-18
授权号 ：
CN209816262U
授权日 ：
2019-12-20
发明人 ：
徐健刘耀阳顾骏
申请人 ：
上海精骊电子技术有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区南汇新城镇海洋一路333号1号楼、2号楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201920526354.8
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2019-12-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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