蒸镀源及具有该蒸镀源的蒸镀设备
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摘要
本公开提供了一种蒸镀源及具有该蒸镀源的蒸镀设备，属于显示器技术领域。该蒸镀源包括包括至少两个蒸镀源单体，所述蒸镀源单体包括：气流平衡件，所述气流平衡件为内部中空的空心结构；喷嘴，所述喷嘴连接于所述气流平衡件的一侧；坩埚，所述坩埚可拆卸连接于所述气流平衡件的另一侧，所述坩埚为顶部开口的中空结构，所述中空结构形成填料腔，所述气流平衡件连通所述喷嘴的开口端与所述填料腔；所述至少两个蒸镀源单体水平并排排列。该蒸镀源有助于提高蒸镀薄膜的均匀性，提升材料装填的便捷度。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀源及具有该蒸镀源的蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020708290.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-30
授权号 ：
CN212128288U
授权日 ：
2020-12-11
发明人 ：
李玉峰徐飞
申请人 ：
中山凯旋真空科技股份有限公司
申请人地址 ：
广东省中山市横栏镇环镇北路27号
代理机构 ：
北京律智知识产权代理有限公司
代理人 ：
王辉
优先权 ：
CN202020708290.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-12-11 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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