一种具有镀率控制功能的蒸镀源
授权
摘要
本实用新型公布了一种具有镀率控制功能的蒸镀源，包括本体、填料腔和喷嘴，所述填料腔设置在所述本体内，用于放置蒸镀材料，所述喷嘴设置在所述填料腔的上方的本体处并与所述填料腔连通，还包括镀率控制装置，所述镀率控制装置设置在所述填料腔中，所述镀率控制装置包括第一镀率部件和第二镀率部件，所述第一镀率部件设置在所述喷嘴处下方，所述第二镀率部件设置在所述第一镀率部件的一侧，所述第一镀率部件上设置有多个蒸发通道，所述第二镀率部件用于控制第一镀率部件上的蒸发通道的大小。上述技术方案满足不同蒸镀制程对蒸镀镀率的不同需求，且整体结构容易实现，可以提高经济效益，并进一步维持光学器件中成膜层的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
一种具有镀率控制功能的蒸镀源
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021505101.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-27
授权号 ：
CN212864944U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
郑沂林志斌
申请人 ：
福建华佳彩有限公司
申请人地址 ：
福建省莆田市涵江区涵中西路1号
代理机构 ：
福州市景弘专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
林祥翔
优先权 ：
CN202021505101.1
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54 C23C14/12 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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