蒸镀盖板及蒸镀装置
公开
摘要
本申请涉及蒸镀设备技术领域，提供了一种蒸镀盖板及蒸镀装置，前者包括盖板本体；盖板本体至少设置有三个同心设置的遮盖区，且遮盖区中开设有均匀间隔的蒸镀口；盖板本体朝向待蒸镀基材的一侧还设置有喷嘴，喷嘴与蒸镀口一一对应设置；其中，沿盖板本体的径向，位于盖板本体的中心部的喷嘴竖直向上设置；位于盖板本体的中间部的喷嘴向上倾斜并朝向盖板本体的中心设置；位于盖板本体的外周部的喷嘴向上倾斜并背离盖板本体的中心设置。后者包括前者。该蒸镀盖板能够在蒸镀材料从喷嘴通过掩膜板的开口蒸镀到基材的过程中，将蒸镀材料均匀逸散混合，使基材的各个待蒸镀部位都能够被均匀等厚地蒸镀。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀盖板及蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114574810A
申请号 ：
CN202011384380.5
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2020-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
林文晶轩景泉赵军钱海涛毕岩刘萍
申请人 ：
上海升翕光电科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区夏宁路666弄62号
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
周放
优先权 ：
CN202011384380.5
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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