蒸镀装置
授权
摘要
本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀装置。该蒸镀装置包括坩埚和盖板，盖板沿其径向由内向外依次设置有第一区域、第二区域和第三区域；第一区域设置有与盖板同圆心设置的第一蒸发口部；第二区域设置有至少三圈等间距分布的多个第二蒸发口部，每圈中的第二蒸发口部的圆心到盖板的圆心的距离相等，每圈中的相邻两个第二蒸发口部的间距相等，相邻两圈的第二蒸发口部的圆心到盖板的圆心的连线不重合；第三区域设置有至少一圈等间距分布的多个第三蒸发口部，每圈中的第三蒸发口部的圆心到盖板的圆心的距离相等，每圈中的相邻两个第三蒸发口部的间距相等。本申请提供的蒸镀装置有效地减小蒸镀的阴影区域，并提高蒸镀材料成型厚度的均匀性。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020325372.2
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-16
授权号 ：
CN212247181U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
林文晶轩景泉刘萍
申请人 ：
上海升翕光电科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区夏宁路666弄62号
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
冯伟
优先权 ：
CN202020325372.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04 C23C14/12
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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