蒸镀装置
授权
摘要
本申请涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种蒸镀装置。该蒸镀装置包括坩埚,具有蒸发槽;盖板,盖设于蒸发槽上;喷嘴组,与蒸发槽连通,喷嘴组包括第一喷嘴组和第二喷嘴组,第二喷嘴组设置于第一喷嘴组的两端;第一喷嘴组包括多个第一喷嘴和两个端部喷嘴,第二喷嘴组包括多个第二喷嘴,端部喷嘴位于第一喷嘴组沿排列方向的端部,端部喷嘴分别与第一喷嘴和第二喷嘴邻接;端部喷嘴和与其相邻的第一喷嘴或第二喷嘴之间的间距为第一间距,相邻两个第一喷嘴之间的间距为第二间距,相邻两个第二喷嘴之间的间距为第三间距,第一间距大于第二间距,第二间距大于第三间距。本申请提供的蒸镀装置有效地提高了基材的蒸镀质量,特别是基材边缘的蒸镀质量。
基本信息
专利标题 :
蒸镀装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020063436.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-01-13
授权号 :
CN211522305U
授权日 :
2020-09-18
发明人 :
林文晶钱海涛轩景泉
申请人 :
上海升翕光电科技有限公司
申请人地址 :
上海市金山区夏宁路666弄62号
代理机构 :
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 :
冯伟
优先权 :
CN202020063436.6
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-09-18 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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