蒸镀装置
授权
摘要
本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀装置。该蒸镀装置包括坩埚和盖板，所述坩埚的内部具有多个用于收容蒸镀材料的收容槽，相邻两个所述收容槽之间设置有加热槽，所述加热槽设置于所述坩埚的外部，所述收容槽的外表面和所述加热槽均设置有加热件；盖板，所述盖板盖设于所述坩埚上，所述盖板设置有多个用于喷出蒸镀材料的蒸发口部。本申请提供的蒸镀装置通过在坩埚的外部设置加热槽，加热槽设置于相邻两个收容槽之间，且收容槽的外表面和加热槽均设置有加热件，如此可以提高每个收容槽内蒸镀材料的加热效率，从而可以提高蒸镀效率和蒸镀质量。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020326373.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-16
授权号 ：
CN212247182U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
林文晶轩景泉钱海涛赵军刘萍
申请人 ：
上海升翕光电科技有限公司
申请人地址 ：
上海市金山区夏宁路666弄62号
代理机构 ：
北京汇思诚业知识产权代理有限公司
代理人 ：
冯伟
优先权 ：
CN202020326373.9
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/04 C23C14/12
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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