蒸镀装置及蒸镀方法
授权
摘要

本发明实施例提供一种蒸镀装置及蒸镀方法,蒸镀装置包括:承载台,包括主体部、升降部和由主体部围合形成的中空部,主体部具有承载面,升降部在垂直于承载面的方向上可伸缩地设于主体部;掩模组件,设置于承载台,掩模组件包括掩模框架和连接于掩模框架的掩模板,掩模板由中空部露出,掩模框架设置于承载面,以通过升降部的升降能够调节掩模框架与承载面的相对位置。在本发明实施例提供的蒸镀装置中,可以调节掩模板和待蒸镀基板的相对位置,提高掩模板和待蒸镀基板的对位精度,进而提高蒸镀精度。

基本信息
专利标题 :
蒸镀装置及蒸镀方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112647046A
申请号 :
CN202011299840.4
公开(公告)日 :
2021-04-13
申请日 :
2020-11-18
授权号 :
CN112647046B
授权日 :
2022-05-17
发明人 :
齐英旭郭宏伟于上智卓林海王亚周小康
申请人 :
昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市玉山镇晨丰路188号3号房
代理机构 :
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 :
尹红敏
优先权 :
CN202011299840.4
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  C23C14/04  C23C14/50  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-17 :
授权
2021-04-30 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20201118
2021-04-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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