蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法
实质审查的生效
摘要
本申请提供了一种蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法。其中,蒸镀装置,包括蒸镀腔,吸附组件,所述吸附组件用于吸附所述蒸镀腔中的粒子,所述吸附组件包括位于所述蒸镀腔内的第一部分和位于所述蒸镀腔外的第二部分;传送组件,所述传送组件上设置有所述第一部分和所述第二部分,当满足预设条件时,所述传送组件驱动所述第一部分移动至所述蒸镀腔外,并驱动所述第二部分移动至所述蒸镀腔内。本申请实施例通过传送组件自动更换吸附组件以使新的吸收组件吸收粒子,以防止粒子沉积到蒸镀腔中的防着板上,从而避免了在制备显示面板时基板上引入粒子的情况,解决了加热蒸发的方式导致基板上留有粒子的问题,进而提高有机显示器件的显示性能。
基本信息
专利标题 :
蒸镀装置和蒸镀装置的制作方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114277337A
申请号 :
CN202111544784.0
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
梅亚梦覃事建
申请人 :
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
王芳芳
优先权 :
CN202111544784.0
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20211216
申请日 : 20211216
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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