真空蒸镀装置和真空蒸镀方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明提供一种真空蒸镀装置，其包括一真空腔、一喷头、一供气管、一扩散装置和一工作台，该喷头与该工作台相对设置在该真空腔内，该喷头具有多个导气孔，该供气管与该导气孔相连通，该扩散装置固定于该喷头上。本发明还提供一种采用上述蒸镀装置的真空蒸镀方法。
基本信息
专利标题 ：
真空蒸镀装置和真空蒸镀方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1970826A
申请号 ：
CN200510101739.2
公开（公告）日 ：
2007-05-30
申请日 ：
2005-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
黄荣龙彭家鹏赖建廷杨秋莲
申请人 ：
群康科技（深圳）有限公司;群创光电股份有限公司
申请人地址 ：
518109广东省深圳市宝安区龙华镇富士康科技工业园E区4栋1层
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN200510101739.2
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 B05B1/14
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2009-07-15 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2007-07-25 ：
实质审查的生效
2007-05-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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