超高真空金属蒸镀设备及其蒸镀方法
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种超高真空金属蒸镀设备及其蒸镀方法,旨在解决现有的真空金属蒸镀设备配备的蒸发源器件数量较少,且蒸镀金属材料单一加上单次蒸镀基底数量受限,效率较低,同时也没有设计对基底基底的温度控制器件,导致蒸镀附着性较差的问题,超高真空金属蒸镀设备,包括平台机架,平台机架的上端通过若干个支撑腿固定有内部中空且于腔壁上开设有若干法兰口的球形腔体;球形腔体的法兰口上分别安装有:若干个快开门;压电旋转机构;若干个高温热蒸发源机构;放气阀;电极法兰;抽真空机构;还包括有工控计算机或微型控制电脑。本发明尤其适用于超高真空的多蒸发源金属蒸镀,具有较高的社会使用价值和应用前景。

基本信息
专利标题 :
超高真空金属蒸镀设备及其蒸镀方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114507845A
申请号 :
CN202210080178.6
公开(公告)日 :
2022-05-17
申请日 :
2022-01-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
沈敏敏张宇田悦李净马诚杰王城程
申请人 :
仪晟科学仪器(嘉兴)有限公司
申请人地址 :
浙江省嘉兴市南湖区亚太路906号(中科院三期)17号楼2楼203室
代理机构 :
杭州衡峰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈修伟
优先权 :
CN202210080178.6
主分类号 :
C23C14/26
IPC分类号 :
C23C14/26  C23C14/04  C23C14/50  C23C14/56  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2022-06-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/26
申请日 : 20220124
2022-05-17 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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