一种微型多源金属超薄膜电极超高真空蒸镀装置及方法
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种微型多源金属超薄膜电极超高真空蒸镀装置及方法，包括置于超高真空腔体中能够进行旋转的蒸发器盘体、n个微型蒸发器和样品台支架，样品台支架上固定有m个样品台，在样品台上固定有放置衬底的样品托；通过控制超高真空腔体真空度和加载到微型蒸发器与样品台的电流，利用金属材料与加热丝间的点接触，实现金属单原子、纳米团簇及超薄膜的蒸镀。且由于蒸发器的加热功率较小，避免了对样品造成升温破坏；同时使用掩膜法可在避免样品污染的前提下实现蒸镀图案化原子层薄膜。
基本信息
专利标题 ：
一种微型多源金属超薄膜电极超高真空蒸镀装置及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114381696A
申请号 ：
CN202111450038.5
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2021-11-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
潘毅王受信张又麒
申请人 ：
西安交通大学
申请人地址 ：
陕西省西安市咸宁西路28号
代理机构 ：
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 ：
姚咏华
优先权 ：
CN202111450038.5
主分类号 ：
C23C14/26
IPC分类号 ：
C23C14/26 C23C14/04 C23C14/56 C23C14/16 C23C14/18
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/26
申请日 : 20211130
申请日 : 20211130
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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