一种真空蒸镀坩埚
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摘要

本实用新型公开了一种真空蒸镀坩埚,涉及蒸镀坩锅技术领域,为解决现有技术中的真空蒸镀所使用的坩埚大多为铝制或是石墨结构,二者皆存在一定的弊端,石墨在高温状态下容易发生氧化,铝制虽然抗氧化性强,但不耐腐蚀的问题。所述蒸镀组合坩埚包括坩埚内胆和坩埚外体,且坩埚内胆设置在坩埚外体的内部,所述坩埚内胆的顶部设置有金属法兰片,且金属法兰片与坩埚内胆和坩埚外体贴合连接,所述坩埚外体与坩埚内胆通过固定螺栓连接,且固定螺栓贯穿坩埚外体和金属法兰片延伸至坩埚内胆的内部,所述坩埚外体的外表面设置有感应电源插口,所述坩埚外体的内部设置有密封加热腔,所述密封加热腔的内部设置有射频感应线圈。

基本信息
专利标题 :
一种真空蒸镀坩埚
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020793602.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-14
授权号 :
CN212357367U
授权日 :
2021-01-15
发明人 :
郭果
申请人 :
苏州工业园区通易机械有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区东环路杨枝东路口
代理机构 :
苏州市指南针专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
严明
优先权 :
CN202020793602.8
主分类号 :
C23C14/26
IPC分类号 :
C23C14/26  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/26
电阻加热蒸发源法或感应加热蒸发源法
法律状态
2021-01-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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