一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备
实质审查的生效
摘要
本申请公开了一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备，用以提高蒸镀稳定性、提升蒸镀品质。本申请实施例提供的一种坩埚盖，坩埚盖包括：盖片，具有第一开口；喷嘴，在盖片的一侧与第一开口的边缘连接；螺旋结构，在第一开口之外的区域且在盖片背离喷嘴一侧与盖片连接；螺旋结构在盖片的正投影与第一开口具有交叠。
基本信息
专利标题 ：
一种坩埚盖、蒸镀坩埚及蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114507844A
申请号 ：
CN202210177936.6
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2022-02-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
晋亚杰肖昂罗楠加新星刘金彪胡斌李靖刘文豪姬磊李元星周杰兰代江李端瑞党博谭刘飞祁泽宙刘雅楼
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
王迪
优先权 ：
CN202210177936.6
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20220225
申请日 : 20220225
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
