真空蒸镀用承载结构
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摘要

本实用新型提出一种真空蒸镀用承载结构,包括外卡体和内卡体;内卡体包括圆形的盖板和上围板,盖板上临近上围板的两个自由端分别设有一个通孔,盖板上密布上透气孔;外卡体包括圆形的承载板和下围板,下围板的两个自由端上分别设置一卡条,卡条包括第一垂直段、水平段和第二垂直段,承载板上密布下透气孔;内卡体置于外卡体内时,第二垂直段穿设于通孔内,盖板底面紧贴水平段上表面设置,上围板紧贴下围板内壁设置,第二垂直段紧贴上围板内壁设置,第一垂直段的左右两端中一端与下围板固定连接、另一端延伸后向外卡体内弯曲形成夹持端,承载板上设有下通槽。本实用新型有助于蒸镀粉末均匀装配,而且装配快速、简单。

基本信息
专利标题 :
真空蒸镀用承载结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021297555.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-06
授权号 :
CN212533116U
授权日 :
2021-02-12
发明人 :
周磊窦沛静段琳琳丁媛
申请人 :
明德润和机械制造(天津)有限公司
申请人地址 :
天津市津南区八里台镇科达一支路3号
代理机构 :
天津盈佳知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
孙宝芸
优先权 :
CN202021297555.4
主分类号 :
C23C14/50
IPC分类号 :
C23C14/50  C23C14/24  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2021-02-12 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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