一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪
授权
摘要
本实用新型涉及机械技术领域，公开了一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪。基片蒸镀承载盘，用于真空蒸镀仪中，包括底盘和挡板组件，底盘上设有多个用于放置基片的承载部；挡板组件设置于底盘下方，挡板组件能相对底盘运动，且挡板组件用于切换是否蒸镀与切换所需蒸镀图形。本实用新型提供的基片蒸镀承载盘中的挡板组件可以遮挡蒸镀图形使对应的基片不蒸镀图形，还可以针对每个基片的蒸镀要求切换蒸镀图形，使蒸镀仪能同时蒸镀多个及多种类的基片，增加了蒸镀基片的种类和个数，提高了基片蒸镀承载盘的空间利用率和蒸镀仪的蒸镀效率。
基本信息
专利标题 ：
一种基片蒸镀承载盘及真空蒸镀仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922445523.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-30
授权号 ：
CN211256077U
授权日 ：
2020-08-14
发明人 ：
冯亚青朱文俊张敬娣梁舰敬文华冯敏强廖良生
申请人 ：
江苏集萃有机光电技术研究所有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴江区黎里镇汾湖大道1198号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
孟金喆
优先权 ：
CN201922445523.8
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/24 C23C14/12 C23C14/04
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-08-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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