一种真空蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种真空蒸镀设备，属于真空蒸镀领域。它包括蒸镀腔室；还包括蒸镀台，其有若干个，置于蒸镀腔室内底部，每个蒸镀台顶部均设置有蒸发源，不同蒸镀台的蒸发源的蒸镀材料不同；以及基板，其有若干个，设于蒸镀腔室内顶部，基板环绕式设于蒸镀台上方。本实用新型通过环绕式设置多个基板，配合多个蒸镀台，能对基板进行不同材料的同时蒸镀，且蒸镀台的蒸发源散发处的材料分子可更大面积的被基板朝向蒸镀台的待镀面接收，从而降低了对材料的浪费，具有结构简单、设计合理、易于制造的优点。
基本信息
专利标题 ：
一种真空蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022132157.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-25
授权号 ：
CN216192657U
授权日 ：
2022-04-05
发明人 ：
李同裕
申请人 ：
扬州吉山津田光电科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省扬州市宝应县曹甸镇工业集中区
代理机构 ：
南京经纬专利商标代理有限公司
代理人 ：
王美章
优先权 ：
CN202022132157.3
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/50 C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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