蒸镀设备
授权
摘要
本实用新型涉及一种蒸镀设备，包括坩埚、支撑组件和称重装置，所述坩埚用于加热蒸镀材料并使所述蒸镀材料气化，所述支撑组件包括坩埚支腿，所述坩埚支腿具有能够容纳所述坩埚的安装槽，所述称重装置设置于所述支撑组件上，所述坩埚安装于所述安装槽，且所述称重装置能够检测所述坩埚的重量。通过在支撑组件上设置称重装置，称重装置能够实时检测坩埚的重量以获得蒸镀材料的实时消耗量，有利于在蒸镀作业中对蒸镀材料消耗量以及蒸镀材料在基片上的沉积量进行把控。当蒸镀材料在基片上的沉积量达到设定值时，可使坩埚停止工作，减少蒸镀材料的损失，以及避免作业时间的浪费，提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
蒸镀设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022467880.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-30
授权号 ：
CN213624348U
授权日 ：
2021-07-06
发明人 ：
潘昌佑
申请人 ：
乐金显示光电科技（中国）有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市广州高新技术产业开发区科学城开泰大道59号
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN202022467880.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/52 G01G17/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-07-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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