一种蒸镀设备及蒸镀方法
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摘要
本发明公开了一种蒸镀设备及蒸镀方法。所述蒸镀设备包括：传送机构、第一蒸镀腔室和第二蒸镀腔室；其中，所述传送机构，被配置为将待蒸镀基板在所述第一蒸镀腔室和所述第二蒸镀腔室间传送；所述第一蒸镀腔室，被配置为在待蒸镀基板上形成第一蒸镀膜层；以及所述第二蒸镀腔室，被配置为在所述第一蒸镀膜层上形成第二蒸镀膜层。所述蒸镀设备及蒸镀方法能够降低蒸镀腔室温度，降低白点不良的概率。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀设备及蒸镀方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN110144551A
申请号 ：
CN201910599323.X
公开（公告）日 ：
2019-08-20
申请日 ：
2019-07-04
授权号 ：
CN110144551B
授权日 ：
2022-05-10
发明人 ：
饶勇岳小非
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京风雅颂专利代理有限公司
代理人 ：
李弘
优先权 ：
CN201910599323.X
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-05-10 ：
授权
2019-09-13 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/24
申请日 : 20190704
申请日 : 20190704
2019-08-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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