一种蒸镀设备以及蒸镀系统
授权
摘要
本实用新型涉及一种蒸镀设备以及蒸镀系统。蒸镀设备包括坩埚台，坩埚台包括用于放置靶材的载物平面、限制靶材蒸发角度的角度限制结构以及位移机构，位移机构被配置为带动载物平面在垂直于载物平面的方向上移动；加热装置，被配置为对靶材进行加热以使靶材蒸发。在一些实施过程中，有利于保证蒸镀的膜厚均一性，且也可根据需要主动的改变蒸发角度，不需要停机调整，使得蒸镀过程的灵活性更强，更为便捷。
基本信息
专利标题 ：
一种蒸镀设备以及蒸镀系统
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202122479368.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2021-10-14
授权号 ：
CN216303971U
授权日 ：
2022-04-15
发明人 ：
黄琪兵杨然翔
申请人 ：
重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号（1号厂房）
代理机构 ：
深圳鼎合诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
李发兵
优先权 ：
CN202122479368.9
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/54
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2022-04-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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