真空蒸镀装置
授权
摘要
本发明提供一种真空蒸镀装置，其在对辊筒上卷绕的片状的基材的部分进行蒸镀时，可确保设置有蒸镀单元的蒸镀室和与其相邻的主腔室内的相邻室气氛分离。其具有：主腔室(1)，其具有基材行进装置和辊筒(2)；以及蒸镀单元(Vu)，其对卷绕在辊筒上的片状的基材(Sw)的部分进行蒸镀。主腔室内还具有第一隔壁(75)和第二隔壁(7a、7b)，所述第一隔壁(75)划分容纳有蒸镀单元的蒸镀室，所述第二隔壁(7a、7b)与第一隔壁相连设置并间隔以上述曲率弯曲的第一间隙(Gp1)覆盖位于蒸镀单元的周向两侧的辊筒的外筒部分，蒸镀室(Vs)和与该蒸镀室相邻的主腔室内的相邻室(As)以第一间隙为边界彼此连通，以第二隔壁确定蒸镀室和相邻室之间的电导。
基本信息
专利标题 ：
真空蒸镀装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112368413A
申请号 ：
CN201980038547.1
公开（公告）日 ：
2021-02-12
申请日 ：
2019-10-28
授权号 ：
CN112368413B
授权日 ：
2022-04-29
发明人 ：
斋藤修司横山礼宽
申请人 ：
株式会社爱发科
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京英特普罗知识产权代理有限公司
代理人 ：
齐永红
优先权 ：
CN201980038547.1
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56 C23C16/54
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2022-04-29 ：
授权
2021-04-06 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/56
申请日 : 20191028
申请日 : 20191028
2021-02-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN112368413A.PDF
PDF下载
