一种真空蒸镀装置

专利申请权、专利权的转移

摘要

本实用新型涉及一种真空蒸镀装置，属于真空蒸镀技术领域，解决了现有技术中蒸镀材料利用率低、镀层附着力小以及无法精确控制膜厚的问题。蒸镀装置，包括真空腔、熔融单元、蒸气输送单元和喷射单元，熔融单元通过蒸气输送单元和喷射单元连接；熔融单元包括熔融腔，蒸气输送单元包括蒸气腔，蒸气输送单元包括蒸气腔，喷射单元包括喷射腔和喷嘴；从熔融腔至喷射腔方向，蒸气腔的横截面面积逐渐减小；喷嘴包括用于向试样镀膜的喷气口；蒸气腔顶部的横截面面积大于喷气口处的横截面面积；试样在真空腔内完成镀膜。本实用新型实现了对蒸镀材料的高效利用，并且提高了镀膜的致密性。

基本信息

专利标题：

一种真空蒸镀装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201920418628.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-03-29

授权号：

CN209836289U

授权日：

2019-12-24

发明人：

刘昕江社明仲海峰习中革李远鹏张杰邱肖盼张子月张启富

申请人：

新冶高科技集团有限公司;北京钢研新冶工程设计有限公司

申请人地址：

北京市海淀区学院南路76号

代理机构：

北京天达知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

丛洪杰

优先权：

CN201920418628.1

主分类号：

C23C14/24

IPC分类号：

C23C14/24 C23C14/54