彩膜基板及其制作方法、显示面板
实质审查的生效
摘要
本发明提供一种彩膜基板及其制作方法、显示面板，该彩膜基板包括：基板，以及位于基板上的彩色色阻块和黑色矩阵。其中，相邻两个彩色色阻块之间具有空隙，黑色矩阵对应空隙处设置于基板上，且黑色矩阵远离基板的部分与彩色色阻块存在交叠。本发明通过将黑色矩阵远离基板的部分与彩色色阻块形成交叠，使得黑色矩阵靠近基板一侧的截面宽度小于远离基板一侧的截面宽度，从而在黑色矩阵远离基板的部分保持正常遮光线宽的前提下，减小黑色矩阵靠近基板的部分的线宽，进而提高开口率。
基本信息
专利标题 ：
彩膜基板及其制作方法、显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114509889A
申请号 ：
CN202210118193.5
公开（公告）日 ：
2022-05-17
申请日 ：
2022-02-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
艾飞罗成志
申请人 ：
武汉华星光电技术有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
魏学昊
优先权 ：
CN202210118193.5
主分类号 ：
G02F1/1335
IPC分类号 ：
G02F1/1335
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器
法律状态
2022-06-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20220208
申请日 : 20220208
2022-05-17 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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