彩膜基板、显示面板及显示装置
授权
摘要
本申请公开了一种彩膜基板、显示面板及显示装置，其中，彩膜基板，包括第一基板，第一基板上形成有黑矩阵层和至少形成于黑矩阵层上的导电层，黑矩阵层界定子像素的区域为显示区域，显示区域外围绕有非显示区域，非显示区域形成有凸出于黑矩阵层预定高度的隔墙，隔墙用于隔断导电层。隔墙凸出黑矩阵层预定高度，使得隔墙与黑矩阵之间形成足够大的段差，在形成导电层时，由于导电层比较薄，会在该段差处直接断开，使得隔墙两侧的导电层之间形成断路，即使彩膜基板受到挤压或按压，边缘侧的导电层与背光源的金属边框接触，显示区域的导电层不会与背光源的金属边框导通，避免了显示区域的导电层的参考电压被拉动，而导致显示异常的问题发生。
基本信息
专利标题 ：
彩膜基板、显示面板及显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201922286589.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-12-17
授权号 ：
CN210803916U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
李辉顾可可杨妮李云泽陈雪芳赵齐
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
郭栋梁
优先权 ：
CN201922286589.7
主分类号 ：
G02F1/1335
IPC分类号 ：
G02F1/1335 G02F1/1339 G02F1/1343 G02F1/1337
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置，例如偏振器或反射器
法律状态
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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