阵列基板、彩膜基板、显示面板及显示装置
授权
摘要

本申请实施例提供了一种阵列基板、彩膜基板、显示面板及显示装置。该阵列基板的边框区包括设置有绑定结构的绑定区、第一密封区和位于第一密封区外侧且包括引出区的第二密封区;该阵列基板包括第一柔性衬底、位于第一柔性衬底两侧的第一无机阻隔层和平坦化层、位于平坦化层远离第一柔性衬底一侧的电路结构层以及位于第一柔性衬底和第一无机阻隔层之间且位于第二密封区的第一刻蚀阻挡结构;电路结构层包括引出线和有源层的材料为有机半导体材料的薄膜晶体管,引出线穿过引出区与绑定结构连接;阵列基板设置有位于除引出区外的第二密封区且贯穿电路结构层、平坦化层和第一柔性衬底的第一刻蚀槽。本实施例能够提升显示面板的水氧阻隔能力。

基本信息
专利标题 :
阵列基板、彩膜基板、显示面板及显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022143785.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-25
授权号 :
CN213069408U
授权日 :
2021-04-27
发明人 :
李树磊谢昌翰黄华康昭马勇刘永兴朱小研赵梦华
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京市立方律师事务所
代理人 :
张筱宁
优先权 :
CN202022143785.1
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333  G02F1/1339  G02F1/1362  G02F1/1335  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2021-04-27 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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