一种掩膜板、其制作方法及显示面板
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种掩膜板、其制作方法及显示面板，其中，所述掩膜板包括：本体，所述本体设置有贯穿厚度方向且呈阵列排布的多个开口结构，所述多个开口结构用于沉积功能材料至显示面板的显示区；所述本体分为位于在各所述开口结构之间的分割区，以及包围各所述开口结构的框体区，所述本体在所述分割区设置有相互独立的至少两个开槽结构，且各所述开槽结构与相邻的所述开口结构之间具有设定间距。用于减小阴影区域，提高显示面板的制作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种掩膜板、其制作方法及显示面板
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114540787A
申请号 ：
CN202111390867.9
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
何庆燕青青王格袁晓敏蒋志亮
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京同达信恒知识产权代理有限公司
代理人 ：
丁睿
优先权 ：
CN202111390867.9
主分类号 ：
C23C16/04
IPC分类号 ：
C23C16/04 H01L51/00 H01L51/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 16/04
申请日 : 20211123
申请日 : 20211123
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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