掩膜版的调整方法及制作方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及掩膜版技术领域，公开了一种掩膜版的调整方法及制作方法。通过确定掩膜版的框架的实际形变量与理论形变量的差异值，对理论反作用力的大小进行调整，得到目标反作用力并应用于制作掩膜版。其中，理论反作用力的调整幅度匹配该差异值，使得目标反作用力能够尽可能抵消掩膜单元施加于框架的拉力，进而缓解掩膜版上的掩膜开口的偏位情况，有利于提高所制作像素的像素位置精度。
基本信息
专利标题 ：
掩膜版的调整方法及制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114318224A
申请号 ：
CN202111566041.3
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2021-12-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
孙琳李露露
申请人 ：
合肥维信诺科技有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市新站区魏武路与新蚌埠路交口西南角
代理机构 ：
广东君龙律师事务所
代理人 ：
丁建春
优先权 ：
CN202111566041.3
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 B21F33/02
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C23C 14/04
申请日 : 20211220
申请日 : 20211220
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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